測量臺、曝光臺：是承載硅片的工作臺。

　　激光器：也就是光源，光刻機核心設備之一。

　　光束矯正器：矯正光束入射方向，讓激光束盡量平行。

　　能量控制器：控制終照射到硅片上的能量，曝光不足或過足都會嚴重影響成像質量。

　　光束形狀設置：設置光束為圓型、環(huán)型等不同形狀，不同的光束狀態(tài)有不同的光學特性。

　　遮光器：在不需要曝光的時候，阻止光束照射到硅片。

　　能量探測器：檢測光束終入射能量是否符合曝光要求，并反饋給能量控制器進行調整。

　　掩模版：一塊在內(nèi)部刻著線路設計圖的玻璃板，貴的要數(shù)十萬美元。

　　掩膜臺：承載掩模版運動的設備，運動控制精度是nm級的。

　　物鏡：物鏡用來補償光學誤差，并將線路圖等比例縮小。

　　硅片：用硅晶制成的圓片。硅片有多種尺寸，尺寸越大，產(chǎn)率越高。題外話，由于硅片是圓的，所以需要在硅片上剪一個缺口來確認硅片的坐標系，根據(jù)缺口的形狀不同分為兩種，分別叫flat、 notch。

　　內(nèi)部封閉框架、減振器：將工作臺與外部環(huán)境隔離，保持水平，減少外界振動干擾，并維持穩(wěn)定的溫度、壓力。

　　標簽：深圳激光刻碼機