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國產(chǎn)光刻機(jī)究竟處于什么水平?

返回列表 來源: 發(fā)布日期:2021-11-04

目前又有哪些地方存在不足?很多朋友都存在一定的疑惑,下面就來給大家進(jìn)行詳細(xì)解讀。

  國產(chǎn)光刻機(jī)目前水平

  其實(shí)對于這個(gè)國產(chǎn)光刻機(jī)究竟是處于什么水平,一直還是飽受爭議,這里筆者要說大部分人混淆了兩個(gè)機(jī)器的概念。在芯片生產(chǎn)中所需的蝕刻機(jī)確實(shí)達(dá)到了領(lǐng)先水平,中微半導(dǎo)體做的蝕刻機(jī)已經(jīng)達(dá)到了5nm水平,目前正在向著3nm工藝突破。

  而國產(chǎn)光刻機(jī)還是以上海微電子裝備股份有限公司水平比較領(lǐng)先,目前來說上海微電子的水平還是在90nm水平。而近有一些報(bào)道說2021年上海微電子要做出11nm的光刻機(jī),這也讓人比較振奮。其實(shí)這里也要認(rèn)清現(xiàn)實(shí),這個(gè)報(bào)道可信度并不高,因?yàn)槟壳吧虾N㈦娮又饕较蜻€是要突破28nm,也就是或?qū)⒃?021年推出28nm光刻機(jī)。

  而這里大部分朋友就是混淆了這兩個(gè)不同機(jī)器(光刻機(jī)/蝕刻機(jī))的概念,才導(dǎo)致對于光刻機(jī)目前什么水平有疑惑。網(wǎng)上一些其它報(bào)道在光刻機(jī)領(lǐng)域各種先進(jìn)突破,其實(shí)大多數(shù)還是基于實(shí)驗(yàn)室階段,也就是想要真正投入商用還需要很長一段時(shí)間去驗(yàn)證。

  光刻機(jī)難在哪里

  簡單來說目前國產(chǎn)光刻機(jī)很多部件工藝達(dá)不到,這也是德國工程師所說那樣給你們?nèi)讏D紙你們也做不出來。他所說這句話就是基于我們很多部件工藝達(dá)不到,想要制造高端光刻機(jī),相應(yīng)的部件工藝就要達(dá)到一定水平。而目前卡住的正是部件生產(chǎn)工藝,國內(nèi)相關(guān)部件工藝達(dá)不到。

  就以這個(gè)光刻機(jī)所需鏡頭來說,德國蔡司一直非常強(qiáng)。它的技術(shù)經(jīng)過幾十年的沉淀,鏡頭工藝非常的頂尖,而我們國內(nèi)水平是達(dá)不到的。而ASML也是依靠蔡司提供的頂尖鏡頭、德國先進(jìn)的軸承技術(shù)、美國的光柵等各種全球頂尖技術(shù)部件,才整合出目前頂尖EUV光刻機(jī)。

  單靠上海微電子行嗎

  現(xiàn)在很多人對于光刻機(jī)都是寄希望于上海微電子,其實(shí)這個(gè)想法并不是很正確。目前來說沒有任何一家公司可以做到所有部件自供應(yīng),就連光刻機(jī)巨頭荷蘭ASML也是依賴來自全球各種零部件,進(jìn)行相應(yīng)整合才做出來光刻機(jī)。

  而想要光刻機(jī)有所突破,不僅僅要靠著上海微電子一家企業(yè),更多的還是要整體提高國內(nèi)相關(guān)企業(yè)的生產(chǎn)工藝。也可以簡單理解為,光刻機(jī)相關(guān)部件的工藝達(dá)到了,才能夠在更加先進(jìn)光刻機(jī)生產(chǎn)上有所突破。如果要深入探討話,其實(shí)終還是歸結(jié)于這個(gè)材料學(xué)研究,材料研究更加的深入,在相應(yīng)部件上工藝就更加容易追求頂尖。

  而一部分網(wǎng)友也是曾經(jīng)評論說,中芯國際目前不是已經(jīng)能夠生產(chǎn)14nm工藝芯片(榮耀Play4T使用的麒麟710A)其實(shí)這里還是要明白一件事,中芯國際目前用的還是荷蘭ASML光刻機(jī),被推遲交貨的是頂尖的EUV光刻機(jī)。

  標(biāo)簽:深圳激光刻碼機(jī)

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