去百度，只能查到SP光刻機(jī)高大上的新聞，會(huì)有一種ASML和臺(tái)積電瞬間被秒殺的錯(cuò)覺(jué)。然并卵，我們真正需要了解的是這個(gè)機(jī)臺(tái)到底能不能用，還好互聯(lián)網(wǎng)上總有大神會(huì)為我們揭開(kāi)一點(diǎn)神秘的面紗

　　一，sp光刻和現(xiàn)有的工藝流程沖突還挺大的，不過(guò)這個(gè)應(yīng)該還是小問(wèn)題，如果能夠降低成本，資本家們還是愿意去折騰工程師們的。

　　二，表面等離激元的調(diào)控還是比較困難的，最終所能得到的曝光圖樣會(huì)非常受限。如果想用在gate或者metal層應(yīng)該非常困難，也許可以在contact或者sadp的cut層試上一試？同時(shí)sp難以調(diào)控會(huì)使得opc修正極其困難。

　　三，sp是利用近場(chǎng)效應(yīng)，我之前也試過(guò)蝕刻出深亞波長(zhǎng)尺度的圖案，但是縱向方向的蝕刻深度巨淺，這是sp的本身物理性質(zhì)所決定的。水一水文章問(wèn)題不大，但是在光刻流程中，必須要在光刻膠或者h(yuǎn)ard mask制作出圖案，這兩種東西通常都是上百納米厚，光用sp壓根不可能在保證高精度的情況下刻。

　　四，我之前想過(guò)如果對(duì)應(yīng)波段的超構(gòu)材料研究足夠深入，把hard mask層用超構(gòu)材料制作，說(shuō)不定可以獲得足夠的蝕刻深度，但是這種方法對(duì)于不同版圖的兼容性絕對(duì)是災(zāi)難。況且滿(mǎn)足這種條件的超構(gòu)材料放開(kāi)腦洞想都很難實(shí)現(xiàn)，還要滿(mǎn)足hardmask需求，還要表面平整，簡(jiǎn)直不可能。

　　標(biāo)簽：深圳激光刻碼機(jī)