半導(dǎo)體設(shè)備按照功能劃分，有IC制造、IC封裝、IC測(cè)試、硅片加工等，其中IC制造所占比重最多，為81%，測(cè)試設(shè)備占9%，封裝設(shè)備占6%，其他設(shè)備大約占4%。

　　而IC制造，最為主要的兩個(gè)設(shè)備是光刻機(jī)和刻蝕機(jī)。

　　光刻機(jī)簡單說以光為刀，將設(shè)計(jì)好的電路圖投射到硅片之上，而刻蝕機(jī)則是選擇性的去除硅片上不需要的材料。

　　在半導(dǎo)體設(shè)備產(chǎn)業(yè)鏈上，大陸的產(chǎn)業(yè)鏈體系已經(jīng)逐步完善，具備了國產(chǎn)替代能力。

　　在刻蝕機(jī)設(shè)備上，大陸處于世界主流水準(zhǔn)，北方華創(chuàng)和中微電子國內(nèi)份額合計(jì)為20%。而且在其他設(shè)備上，比如說測(cè)試設(shè)備、清洗設(shè)備、過程控制等也正在成長。

　　我們最新的技術(shù)是別人2000年的技術(shù)，很殘酷，但的確是事實(shí)。而且，最新具備7nm生產(chǎn)工藝的EUV極紫外光光刻機(jī)我們想盡了一切辦法也沒買到。

　　至于原因，可以從1997年說起。

　　那一年，光刻機(jī)的光源波長被卡死在193nm，成為了擺在全產(chǎn)業(yè)面前的一道難關(guān)。英特爾為了突破這道難關(guān)，發(fā)起了一個(gè)叫做EUV LLC的聯(lián)盟。聯(lián)盟之內(nèi)的人物有美國能源部以及能源部的三個(gè)下屬單位：勞倫斯利弗莫爾國家實(shí)驗(yàn)室、桑迪亞國家實(shí)驗(yàn)室和勞倫斯伯克利實(shí)驗(yàn)室，外加摩托羅拉、IBM等等美國頂尖的科技企業(yè)。

　　特別是能源部的三個(gè)下屬單位，之前的研究成果覆蓋了半導(dǎo)體、物理、制造業(yè)等等各行各業(yè)。國家支持，資金不缺，科技大佬，技術(shù)云集，這個(gè)聯(lián)盟能夠突破193nm的光源波長似乎是板上釘釘。

　　但是這個(gè)聯(lián)盟還缺了最重要的企業(yè)——光刻機(jī)企業(yè)，美國光刻機(jī)企業(yè)SVG、Ultratech早在80年代就在與尼康的競爭中隕落，擺在美國面前的就只有兩家光刻機(jī)企業(yè)，來自日本的尼康與來自荷蘭的ASML。

　　美國怎么選擇，按照今天美日關(guān)系來看，美國毫無疑問會(huì)選擇尼康，不過那時(shí)候日本在半導(dǎo)體領(lǐng)域是美國的頭號(hào)競爭對(duì)手，甚至還壓住了美國的風(fēng)頭，前面所說的美國光刻機(jī)企業(yè)也就是被尼康所打敗。

　　理所當(dāng)然，美國選擇了荷蘭，但有前提條件，ASML必須同意在美國建立一所工廠和一個(gè)研發(fā)中心，以此滿足所有美國本土的產(chǎn)能需求。另外，還保證55%的零部件均從美國供應(yīng)商處采購，并接受定期審查。

　　標(biāo)簽：深圳激光刻碼機(jī)廠家