來(lái)簡(jiǎn)單的了解一下光刻機(jī)工作的技術(shù)原理。當(dāng)我們制作芯片的時(shí)候，電路圖經(jīng)過(guò)光刻機(jī)投放至底片（涂滿光刻膠的硅片），光刻機(jī)不斷蝕刻掉光刻膠，露出硅面之后做化學(xué)處理，不斷反復(fù)的蝕刻，直到芯片制作完成。

　　這里面有兩點(diǎn)要求較高，一個(gè)是光刻機(jī)的中心鏡頭，一個(gè)是光刻機(jī)的光源。

　　大家應(yīng)該知道，ASML公司光刻機(jī)的鏡頭來(lái)自德國(guó)蔡司，光源由美國(guó)CYMER公司獨(dú)家提供。光刻機(jī)的中心鏡頭對(duì)于鏡頭要求較高，需要高純度透光以及高拋光，能夠達(dá)到這一標(biāo)準(zhǔn)的公司并不多（光刻機(jī)工藝制程越高，要求也就越高）。

　　鏡頭的打磨對(duì)于匠人的技術(shù)要求等級(jí)較高，并非是工業(yè)化能夠解決的問(wèn)題，需要十幾年甚至是上百年的技術(shù)沉淀。光刻機(jī)光刻機(jī)，對(duì)于光源的要求更是重中之重，需要體積小、功率高、穩(wěn)定性強(qiáng)的光源（這也是制約我國(guó)光刻機(jī)向高端進(jìn)軍繼續(xù)解決的難題）。

　　標(biāo)簽：深圳激光刻碼機(jī)