前段時(shí)間美方再次對(duì)華為打壓升級(jí)，這也讓芯片和國(guó)產(chǎn)光刻機(jī)再次成為人們熱議。而我們國(guó)產(chǎn)光刻機(jī)究竟是什么水平？

　　其實(shí)對(duì)于這個(gè)國(guó)產(chǎn)光刻機(jī)究竟是處于什么水平，一直還是飽受爭(zhēng)議，這里筆者要說大部分人混淆了兩個(gè)機(jī)器的概念。在芯片生產(chǎn)中所需的蝕刻機(jī)確實(shí)達(dá)到了領(lǐng)先水平，中微半導(dǎo)體做的蝕刻機(jī)已經(jīng)達(dá)到了5nm水平，目前正在向著3nm工藝突破

　　而國(guó)產(chǎn)光刻機(jī)還是以上海微電子裝備股份有限公司水平比較領(lǐng)先，目前來說上海微電子的水平還是在90nm水平。而最近有一些報(bào)道說2021年上海微電子要做出11nm的光刻機(jī)，這也讓人比較振奮。其實(shí)這里也要認(rèn)清現(xiàn)實(shí)，這個(gè)報(bào)道可信度并不高，因?yàn)槟壳吧虾Ｎ㈦娮又饕较蜻€是要突破28nm，也就是或?qū)⒃?021年推出28nm光刻機(jī)。

　　而這里大部分朋友就是混淆了這兩個(gè)不同機(jī)器（光刻機(jī)/蝕刻機(jī)）的概念，才導(dǎo)致對(duì)于光刻機(jī)目前什么水平有疑惑。網(wǎng)上一些其它報(bào)道在光刻機(jī)領(lǐng)域各種先進(jìn)突破，其實(shí)大多數(shù)還是基于實(shí)驗(yàn)室階段，也就是想要真正投入商用還需要很長(zhǎng)一段時(shí)間去驗(yàn)證。

　　標(biāo)簽：深圳激光刻碼機(jī)