光刻機是芯片制造的核心設備之一，按照用途可以分為好幾種：有用于生產(chǎn)芯片的光刻機；有用于封裝的光刻機；還有用于LED制造領域的投影光刻機。

　　用于生產(chǎn)芯片的光刻機是中國在半導體設備制造上大的短板，國內(nèi)晶圓廠所需的高端光刻機完全依賴進口。

　　高端的投影式光刻機可分為步進投影和掃描投影光刻機兩種，分辨率通常七納米至幾微米之間，高端光刻機號稱世界上精密的儀器，世界上已有1.2億美金一臺的光刻機。高端光刻機堪稱現(xiàn)代光學工業(yè)之花，其制造難度之大，全世界只有少數(shù)幾家公司能夠制造。國外品牌主要以荷蘭ASML（鏡頭來自德國），日本Nikon（intel曾經(jīng)購買過Nikon的高端光刻機）和日本Canon三大品牌為主。

　　位于我國上海的SMEE已研制出具有自主知識產(chǎn)權的投影式中端光刻機，形成產(chǎn)品系列初步實現(xiàn)海內(nèi)外銷售。正在進行其他各系列產(chǎn)品的研發(fā)制作工作。

　　生產(chǎn)線和研發(fā)用的低端光刻機為接近、接觸式光刻機，分辨率通常在數(shù)微米以上。主要有德國SUSS、美國MYCRO NXQ4006、以及中國品牌。

　　標簽：深圳激光刻碼機廠家