在這個(gè)過(guò)程中，重要的就是光刻機(jī)。要想生產(chǎn)高端工藝的芯片，首先要有高端的光刻機(jī)。

　　目前光刻系統(tǒng)中常用的深紫外準(zhǔn)分子激光器是 248nm 波長(zhǎng)的氟化氪激光器和 193nm 波長(zhǎng)的氟化氬激光器。

　　通常，準(zhǔn)分子激光器設(shè)計(jì)為與特定的氣體混合物結(jié)合在一起。因此，改變波長(zhǎng)不是一件容易的事，因?yàn)楫a(chǎn)生新波長(zhǎng)的方法是完全不同的，并且材料的吸收特性會(huì)發(fā)生變化。

　　例如，空氣開始在 193nm 波長(zhǎng)附近吸收效果顯著增強(qiáng)，當(dāng)移動(dòng)到亞 193nm 波長(zhǎng)時(shí)就需要在光刻工具上安裝真空泵和吹掃設(shè)備，這是難度很高的操作，所以縮短波長(zhǎng)以達(dá)到更高精度的光刻效果技術(shù)要求非常之高。

　　受激準(zhǔn)分子激光，是一種紫外激光，通常用于生產(chǎn)微電子器件，半導(dǎo)體集成電路，也用于眼科手術(shù)和顯微機(jī)械的加工。

　　標(biāo)簽：深圳激光刻碼機(jī)