ASML EUV光刻機1.2億美金，蝕刻機應(yīng)該也是在1千萬的級別，難度差距不是一點點。

　　另外光刻機里面的光源系統(tǒng)，純硬件水平要達到幾個納米，需要用到超高功率的激光才能實現(xiàn)，功耗水平很高，同時光源的均勻化需要很高的反射材料，對材料以及儀器的環(huán)境要求更高。

　　EUV光刻機的話，目前市場可以做到的也就是ASML，Nikon，Canon，其中ASML更是占到了8成的市場份額。

　　國內(nèi)目前仍然是求著人家買光刻機的地位，7nm的光刻做出來的芯片產(chǎn)品，從ASML的布局看，已經(jīng)是在為2030的下游產(chǎn)品布局的了。

　　標簽：深圳激光刻碼機